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抛光磨料是CMP抛光液中的主要成分，在抛光过程中通过微切削、微擦划、滚压等方式作用于工件表面，达到机械去除材料的作用。

抛光液根据磨料成分一般分为单一磨料抛光液，混合磨料抛光液，复合磨料抛光液

磨料在CMP抛光过程中起到的作用为：

（1）机械作用的实施者，起机械磨削作用；

（2）传输物料的功能，不仅将新鲜浆料传输至抛光垫与被抛材料之间，还将反应物带离材料表面，使得材料新生表面露出，进一步反应去除。

所以选择抛光液时记得考虑分散性好，流动性好，硬度适中，易于清洗的抛光液产品，选择靠谱抛光液厂家很重要！有相关问题可以咨询吉致电子17706168670。